结晶装置以及结晶方法

发明专利无效专利

申请号：
CN200710163150.4
IPC分类号：H01L21/00;H01L21/02
申请日期：
2007-10-10
申请人：
株式会社岛津制作所

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	结晶装置以及结晶方法
申请号	CN200710163150.4	申请日期	2007-10-10
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2008-11-26	公开/公告号	CN101312117
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	H01L21/00 ? IPC结构图谱： H 电学 H9 电学 H01 基本电气元件 H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件（使用半导体器件的测量入G01；一般电阻器入H01C；磁体、电感器、变压器入H01F；一般电容器入H01G；电解型器件入H01G 9/00；电池组、蓄电池入H01M；波导管、谐振器或波导型线路入H01P；线路连接器、汇流器入H01R；受激发射器件入H01S；机电谐振器入H03H；扬声器、送话器、留声机拾音器或类似的声机电传感器入H04R；一般电光源入H05B；印刷电路、混合电路、电设备的外壳或结构零部件、电气元件的组件的制造入H05K；在具有特殊应用的电路中半导体器件的使用见该应用的小类）〔2〕 H01L21/00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备〔2，8〕	IPC分类号	H;0;1;L;2;1;/;0;0;;;H;0;1;L;2;1;/;0;2查看分类表>
申请人	株式会社岛津制作所	申请人地址	日本京都府京都市中京区西之京桑原町1番地变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	株式会社岛津制作所	当前权利人	株式会社岛津制作所
发明人	秋田典孝;高见芳夫
代理机构	北京中原华和知识产权代理有限责任公司	代理人	寿宁;张华辉

摘要

本发明提供一种结晶装置，在此结晶装置中，提供可以获得高能量密度的输出的可见光源。可见光照射系统是由二维阵列排列的多个可见光激光束源形成的。可见光照射系统包括：光强度分布形成装置，使从各可见光激光束源发出的多道可见光激光束的光强度分布图案化；以及成像光学系统，使经所述光强度分布形成装置图案化的光强度分布的光，成像在被处理基板上的照射区域中。将多个固体激光器或半导体激光器发出的各可见激光束，重叠到符合被处理基板与光轴上的成像位置关系的光强度分布形成装置。当重叠准分子激光束与可见光激光束时，重叠从多个可见光的激光束源发出的多道可见光激光束，借由重叠所述可见光激光束所形成的可见光激光束的光强度分布来形成晶体成长。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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