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未达到精度要求的中阶梯光栅闪耀角再次精密加工方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201611020777.X
  • IPC分类号:G02B5/18
  • 申请日期:
    2016-11-21
  • 申请人:
    上海理工大学
著录项信息
专利名称未达到精度要求的中阶梯光栅闪耀角再次精密加工方法
申请号CN201611020777.X申请日期2016-11-21
法律状态授权申报国家暂无
公开/公告日2017-02-15公开/公告号CN106405701A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G02B5/18IPC分类号G;0;2;B;5;/;1;8查看分类表>
申请人上海理工大学申请人地址
上海市杨浦区军工路516号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人上海理工大学当前权利人上海理工大学
发明人黄元申;范娇娇;盛斌;过军军;张大伟;罗露雯;陈国华
代理机构上海申汇专利代理有限公司代理人吴宝根
摘要
本发明涉及一种未达到精度要求的中阶梯光栅闪耀角再次精密加工方法,包括闪耀角偏小和闪耀角偏大两种误差的精密加工方法。当中阶梯光栅闪耀角偏小时,通过离子束溅射,使Al原子以特定方式沉积在闪耀面上,增大闪耀角,达到所需要求。当中阶梯光栅闪耀角偏大时,通过离子束刻蚀闪耀面,使闪耀角减小,达到所需要求。在传统方法制作的中阶梯光栅的基础上,通过离子束刻蚀和Al原子沉积修复闪耀角,可以实现中阶梯光栅闪耀角的精密加工,使每一块刻划或复制的中阶梯光栅都能正常使用。

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