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偏振光照射装置

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200610074623.9
  • IPC分类号:G03F7/20;H01L21/027;G02F1/1337
  • 申请日期:
    2006-04-20
  • 申请人:
    优志旺电机株式会社
著录项信息
专利名称偏振光照射装置
申请号CN200610074623.9申请日期2006-04-20
法律状态驳回申报国家中国
公开/公告日2006-11-01公开/公告号CN1854900
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/20IPC分类号G;0;3;F;7;/;2;0;;;H;0;1;L;2;1;/;0;2;7;;;G;0;2;F;1;/;1;3;3;7查看分类表>
申请人优志旺电机株式会社申请人地址
日本东京都 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人优志旺电机株式会社当前权利人优志旺电机株式会社
发明人中村征司;田中米太;辻宏二
代理机构永新专利商标代理有限公司代理人陈英俊
摘要
本发明的课题是防止因掩膜的弯曲产生的消光比的下降和偏振轴的偏差。在本发明,从光照射部(10)射出的偏振光经由掩膜(M),相对于基板(W)的取向膜入射角度呈θ地倾斜入射。在光照射部的偏振元件(13)的光入射侧设置具有光透射窗(17a)的第一隔壁(17),在光照射部的光射出侧设置覆盖掩膜及掩膜的周围的第二隔壁(18)。从第一隔壁至第二隔壁的空间(S),用排气孔(16b)上设置的风扇(40)等的排气机构进行减压。由此,被掩膜台(20)保持的掩膜从压力高的光射出侧向压力低的光入射侧推压而抬起,矫正由掩膜的自重产生的弯曲。掩膜的弯曲被矫正,所以从光照射部射出的偏振光以相等的角度入射到掩膜,可以防止消光比下降和偏振轴偏差。

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