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一种{111}面暴露高活性TiO2纳米光催化剂的制备方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN201310632686.1
  • IPC分类号:B01J21/06
  • 申请日期:
    2013-11-29
  • 申请人:
    杭州电子科技大学
著录项信息
专利名称一种{111}面暴露高活性TiO2纳米光催化剂的制备方法
申请号CN201310632686.1申请日期2013-11-29
法律状态撤回申报国家中国
公开/公告日2014-03-26公开/公告号CN103657621A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号B01J21/06IPC分类号B;0;1;J;2;1;/;0;6查看分类表>
申请人杭州电子科技大学申请人地址
浙江省杭州市下沙高教园区2号大街 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人杭州电子科技大学当前权利人杭州电子科技大学
发明人张峻;钱丽莎;陶曦;杨凌霞;席俊华;季振国
代理机构杭州求是专利事务所有限公司代理人杜军
摘要
本发明涉及一种{111}面暴露高活性TiO2纳米光催化剂的制备方法。本发明方法首先将钛酸四丁酯和氢氟酸混合成前驱液,加入NH4F,置于水热反应釜中进行水热反应,反应后的固液混合物进行固液离心分离,取出固态产物,洗涤后烘干,将烘干后产物研磨成粉末,得到成品。本发明方法制备的{111}面暴露TiO2纳米颗粒为纯锐钛矿相,颗粒尺寸小,比表面积大,具有很高的光催化活性。本发明方法工艺简单、易于控制、生产效率高。

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