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一种容性耦合装置及滤波器

实用新型专利有效专利
  • 申请号:
    CN202020123491.X
  • IPC分类号:H01P1/212
  • 申请日期:
    2020-01-19
  • 申请人:
    武汉凡谷陶瓷材料有限公司
著录项信息
专利名称一种容性耦合装置及滤波器
申请号CN202020123491.X申请日期2020-01-19
法律状态授权申报国家暂无
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01P1/212IPC分类号H;0;1;P;1;/;2;1;2查看分类表>
申请人武汉凡谷陶瓷材料有限公司申请人地址
湖北省武汉市江夏区藏龙岛工业园九凤街5号凡谷电子工业园 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人武汉凡谷陶瓷材料有限公司当前权利人武汉凡谷陶瓷材料有限公司
发明人刘文;钟伟刚;朱晖;刘雄
代理机构武汉开元知识产权代理有限公司代理人黄行军;王亚萍
摘要
本实用新型公开了一种容性耦合装置。它包括相互连接的两个介质谐振器,所述两个介质谐振器的表面设有导电层,其特征在于:所述两个介质谐振器相连的底面设有环形的电极圈,所述电极圈将两个介质谐振器相连的底面的导电层分割成独立的两部分,两个介质谐振器之间通过所述电极圈实现负耦合。本实用新型在两个介质谐振器的表面设置环形的电极圈,将导电层分割成两部分,通过该电极圈实现两个介质谐振器之间的负耦合,结构简单,加工更方便;同时也可以在电极圈内部设置负耦合孔来配合调节耦合量,设计更合理。

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