一种蒸镀方法

发明专利无效专利

申请号：
CN201510461399.8
IPC分类号：C23C14/24;C23C14/04
申请日期：
2015-07-30
申请人：
京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	一种蒸镀方法
申请号	CN201510461399.8	申请日期	2015-07-30
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2015-11-25	公开/公告号	CN105088142A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C23C14/24 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕 C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆（挤压法制造包覆金属的产品入B21C23/22；通过将预先存在的薄层连接到制品上的方法用金属进行镀覆处理的见各有关位置，例如B21D39/00，B23K；玻璃的金属化入C03C；砂浆、混凝土、人造石、陶瓷或天然石的金属化入C04B41/00；金属的搪瓷或向金属上镀覆玻璃体层入c23D；用电解法或电泳法处理金属表面或镀覆金属入C25D；单晶膜生长入C30B；纺织品的金属化入D06M11/83；用局部金属化法装饰纺织品入D06Q1/04）〔4〕 C23C14/00 通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆〔4，2006.01〕 C23C14/22 以镀覆工艺为特征的〔4〕 C23C14/24 真空蒸发〔4〕	IPC分类号	C;2;3;C;1;4;/;2;4;;;C;2;3;C;1;4;/;0;4查看分类表>
申请人	京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司	申请人地址	北京市朝阳区酒仙桥路10号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	京东方科技集团股份有限公司,鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司	当前权利人	京东方科技集团股份有限公司,鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
发明人	阮士薪;崔富毅;白雪飞;李发顺
代理机构	北京同达信恒知识产权代理有限公司	代理人	黄志华

摘要

本发明公开了一种蒸镀方法，主要内容包括通过对柔性基板进行拉伸以增大柔性基板的蒸镀尺寸，并为拉伸后的柔性基板匹配相同尺寸的掩膜板进行蒸镀，在柔性基板恢复原始尺寸后，得到较高分辨率的基板，且该柔性基板的分辨率高于该柔性基板的原始尺寸对应的掩膜板的最大掩膜精度得到的分辨率。由于匹配的掩膜板的面积尺寸变大，因此，对应的最大掩膜精度相应变大，蒸镀形成的像素单元的个数增多；同时，由于掩膜板的面积尺寸变大，掩膜缝隙会相应变大，从而，避免了粘条现象；而且，保证了蒸镀精度需求，避免蒸镀均一性较差而导致的混色现象。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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