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层压结构体

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN200980116295.6
  • IPC分类号:H01L51/50;C08G61/02;H01L51/42
  • 申请日期:
    2009-03-05
  • 申请人:
    住友化学株式会社
著录项信息
专利名称层压结构体
申请号CN200980116295.6申请日期2009-03-05
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2011-04-13公开/公告号CN102017219A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L51/50IPC分类号H;0;1;L;5;1;/;5;0;;;C;0;8;G;6;1;/;0;2;;;H;0;1;L;5;1;/;4;2查看分类表>
申请人住友化学株式会社申请人地址
日本东京都 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人住友化学株式会社当前权利人住友化学株式会社
发明人田中正信;田中健太;山内掌吾;东村秀之
代理机构中国专利代理(香港)有限公司代理人熊玉兰;高旭轶
摘要
层压结构体,该层压结构体具有第一电极和第二电极,在该第一电极与该第二电极之间具有发光层或电荷分离层,在该发光层或电荷分离层与该第一电极之间具有包含共轭高分子化合物的层,该共轭高分子化合物具有选自式(1)所示的重复单元中的重复单元,(1)(式中,Ar1表示二价芳基,R1表示含有式(2)所示的基团的取代基,该Ar1可以具有R1以外的取代基,n1表示1以上的整数)-(R2)c1-(Q1)n2-Y1(M1)a1(Z1)b1(2)(式中,R2表示可以具有取代基的二价芳基,Q1表示可以具有取代基的二价有机基团,Y1表示碳阳离子、铵阳离子、膦酰基阳离子或磺酰基阳离子,M1表示F-、Cl-、Br-、I-、OH-、RaSO3-、RaCOO-、ClO-、ClO2-、ClO3-、ClO4-、SCN-、CN-、NO3-、SO42-、HSO4-、PO43-、HPO42-、H2PO4-、BF4-或PF6-,Z1表示金属离子或可以具有取代基的铵离子,c1表示0或1,n2表示0以上的整数,其中,c1为0时n2为0,a1表示1以上的整数,b1表示0以上的整数,选择a1和b1以使式(2)所示的取代基的电荷为0,Ra表示可以具有取代基的碳原子数为1~30的烷基或可以具有取代基的碳原子数为6~50的芳基)。-(R2)c1-(Q1)n2-Y1(M1)m1(Z1)b1    (2)

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