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具有多个子反应器结构的金属有机化学气相沉积设备

实用新型专利无效专利
  • 申请号:
    CN201220610564.3
  • IPC分类号:C23C16/44
  • 申请日期:
    2012-11-19
  • 申请人:
    刘祥林
著录项信息
专利名称具有多个子反应器结构的金属有机化学气相沉积设备
申请号CN201220610564.3申请日期2012-11-19
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C23C16/44IPC分类号C;2;3;C;1;6;/;4;4查看分类表>
申请人刘祥林申请人地址
北京市海淀区清华东路甲35号11号楼352室 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人刘祥林当前权利人刘祥林
发明人刘祥林
代理机构暂无代理人暂无
摘要
本发明是一种具有多个子反应器的金属有机物化学气相沉积(MOCVD)设备。该设备包括气路装置和多个子反应器。利用共用气路设备和分气装置,至少两套完全相同的MOCVD子反应器在相同的条件下同时生长以得到一致的外延薄膜或者器件结构。通过增加子反应器的个数而不是增加单个反应器的容量来提高MOCVD设备的批产量,克服了提高单个反应器容量引起的流场和温场控制的困难,从而得到可以大规模生产的MOCVD设备。

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