修整抛光垫的控制方法、装置、修整器及抛光设备

发明专利有效专利

申请号：
CN201710850306.X
IPC分类号：B24B53/017
申请日期：
2017-09-15
申请人：
清华大学;天津华海清科机电科技有限公司

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著录项信息

专利名称	修整抛光垫的控制方法、装置、修整器及抛光设备
申请号	CN201710850306.X	申请日期	2017-09-15
法律状态	暂无	申报国家	暂无
公开/公告日	2018-02-06	公开/公告号	CN107662159A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	B24B53/017 ? IPC结构图谱： B 作业；运输 B2 成型 B24 磨削；抛光 B24B 用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F 3/00）；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给 B24B53/00 用于修整或调节研磨表面的装置或工具〔4〕 B24B53/017 用于修整、清洁或者调节研具的设备或装置〔2012.01〕	IPC分类号	B;2;4;B;5;3;/;0;1;7查看分类表>
申请人	清华大学;天津华海清科机电科技有限公司	申请人地址	北京市海淀区清华园变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	清华大学,华海清科股份有限公司	当前权利人	清华大学,华海清科股份有限公司
发明人	张敬业;路新春;沈攀;王同庆
代理机构	北京清亦华知识产权代理事务所（普通合伙）	代理人	黄德海

摘要

本发明公开了一种修整抛光垫的控制方法、装置、修整器及抛光设备。修整抛光垫的控制方法包括以下步骤：获取修整器的基准修复压力；计算所述抛光垫的b个修复区域中每个修复区域的基准权重系数；获取所述抛光垫当前的修复区域并计算所述抛光垫当前的修复区域的实际权重系数；根据所述基准修复压力、所述抛光垫当前的修复区域的基准权重系数和实际权重系数计算所述抛光垫当前的修复区域的实际修复压力。根据本发明的修整抛光垫的控制方法，可以实时动态地修复抛光垫，更好地达到抛光垫的表面物理一致性，延长抛光垫的使用寿命，且简单有效。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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