加载中...
首页专利查询专利详情

*来源于国家知识产权局数据,仅供参考,实际以国家知识产权局展示为准

间距调节装置、半导体设备及刻蚀工艺腔室

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201911369559.0
  • IPC分类号:H01J37/32
  • 申请日期:
    2019-12-26
  • 申请人:
    长江存储科技有限责任公司
著录项信息
专利名称间距调节装置、半导体设备及刻蚀工艺腔室
申请号CN201911369559.0申请日期2019-12-26
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2020-04-28公开/公告号CN111081523A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01J37/32IPC分类号H;0;1;J;3;7;/;3;2查看分类表>
申请人长江存储科技有限责任公司申请人地址
湖北省武汉市东湖新技术开发区未来三路88号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人长江存储科技有限责任公司当前权利人长江存储科技有限责任公司
发明人马晓
代理机构北京汉之知识产权代理事务所(普通合伙)代理人陈敏
摘要
本发明提供了一种间距调节装置、半导体设备及刻蚀工艺腔室,间距调节装置包括:间距调节模块,其用于使第一部件与第二部件之间保持间距,并根据设定间距值调节间距;间距调节模块包括用于使第一部件与第二部件之间发生相对位移的驱动单元和用于使驱动单元连接至第一部件或第二部件中任意一方的连接单元;驱动单元包括马达或气缸;连接单元包括连接杆与连接件;连接间距调节模块的控制模块,其用于设定间距值,并控制间距调节模块调节间距。本发明通过控制模块实时控制间距调节模块对第一部件与第二部件之间的间距进行调节,实现了对刻蚀工艺腔室中工艺气体喷淋头与晶圆静电卡盘间距的实时且连续的调节,节省了设备维护成本,提高了工艺的可调性。

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供