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晶体管

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201580024522.8
  • IPC分类号:H01L29/78
  • 申请日期:
    2015-01-06
  • 申请人:
    美光科技公司
著录项信息
专利名称晶体管
申请号CN201580024522.8申请日期2015-01-06
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2017-03-22公开/公告号CN106537601A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L29/78
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IPC结构图谱:
IPC分类号H;0;1;L;2;9;/;7;8查看分类表>
申请人美光科技公司申请人地址
美国爱达荷州 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人美光科技公司当前权利人美光科技公司
发明人黛哲;马克·费希尔
代理机构北京律盟知识产权代理有限责任公司代理人路勇
摘要
一些实施例包含在第一半导体材料上具有第二半导体材料的构造。归因于所述第一及第二半导体材料的不同晶格特性,所述第二半导体材料接近所述第一半导体材料的区域具有应变。晶体管栅极向下延伸到所述第二半导体材料中。栅极电介质材料是沿着所述晶体管栅极的侧壁及底部。源极/漏极区域是沿着所述晶体管栅极的所述侧壁,且所述栅极电介质材料处于所述源极/漏极区域与所述晶体管栅极之间。沟道区域在所述源极/漏极区域之间延伸且处于所述晶体管栅极的所述底部下方。所述沟道区域中的至少一些处于所述应变区域内。

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