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阵列基板、其制备方法及显示面板

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202010845426.2
  • IPC分类号:H01L27/12;H01L21/77;G02F1/1362
  • 申请日期:
    2020-08-20
  • 申请人:
    武汉华星光电技术有限公司
著录项信息
专利名称阵列基板、其制备方法及显示面板
申请号CN202010845426.2申请日期2020-08-20
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2020-11-10公开/公告号CN111916463A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L27/12IPC分类号H;0;1;L;2;7;/;1;2;;;H;0;1;L;2;1;/;7;7;;;G;0;2;F;1;/;1;3;6;2查看分类表>
申请人武汉华星光电技术有限公司申请人地址
湖北省武汉市东湖开发区高新大道666号生物城C5栋 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人武汉华星光电技术有限公司当前权利人武汉华星光电技术有限公司
发明人吴咏波
代理机构深圳紫藤知识产权代理有限公司代理人吕姝娟
摘要
本发明提供一种阵列基板、其制备方法以及显示面板。阵列基板包括在衬底基板上层叠设置的图案化的遮光层、有源层、栅极线、数据线、漏极走线以及设置于各层间的绝缘层。所述数据线和所述漏极走线等金属走线采用叠层金属结构。所述金属走线对应于所述图案化的遮光层,且所述金属走线在所述衬底基板上的正投影落在所述图案化的遮光层在所述衬底基板上的正投影的范围内,以缓解金属走线底切处产生漫反射的问题。

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