一种用于磁瓦检测的可调均匀成像光源装置

发明专利无效专利

申请号：
CN201110251447.2
IPC分类号：G01N21/88;F21V13/10;F21V14/08;F21Y101/02
申请日期：
2011-08-30
申请人：
成都四星液压制造有限公司;四川大学

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著录项信息

专利名称	一种用于磁瓦检测的可调均匀成像光源装置
申请号	CN201110251447.2	申请日期	2011-08-30
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2012-01-04	公开/公告号	CN102305796A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G01N21/88 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G01 测量；测试 G01N （除免疫测定法以外包括酶或微生物的测量或试验入C12M，C12Q） G01N21/00 利用光学手段，即利用红外光、可见光；或紫外光来测试或分析材料（G01N 3/00至G01N 19/00优先） G01N21/84 专用于特殊应用的系统〔3〕 G01N21/88 测试瑕疵、缺陷或污点的存在〔3〕	IPC分类号	G;0;1;N;2;1;/;8;8;;;F;2;1;V;1;3;/;1;0;;;F;2;1;V;1;4;/;0;8;;;F;2;1;Y;1;0;1;/;0;2查看分类表>
申请人	成都四星液压制造有限公司;四川大学	申请人地址	四川省成都市郫县安德镇两路口社区变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	成都四星液压制造有限公司,四川大学	当前权利人	成都四星液压制造有限公司,四川大学
发明人	殷国富;刘培勇;李红刚
代理机构	成都九鼎天元知识产权代理有限公司	代理人	刘凯

摘要

本发明公开了一种用于磁瓦检测的可调均匀成像光源装置，包括顶部开设有孔的半球型外壳、与半球型外壳底部连接的底板以及设置在底板上、分布在半球型外壳底部内侧的弧形光源组，在所述半球型外壳顶部开设的孔口处设置有螺套，在所述螺套上、半球型外壳内设置有可相对螺套上下移动的遮光板，在所述半球型外壳内表面均匀的喷涂有高反光率漫反射反光材料。本发明能够通过手动调节遮光板的位置，控制磁瓦端面倒角面与弧形平面的照度，一次成像即可获得清晰稳定的图像，降低了图像数据处理量，提高了实时在线处理速度。该光源装置解决了市面上现成光源难以解决的技术问题，而且生产成本较低，在同类应用场合具有推广价值，具有一定的经济性。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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