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*来源于国家知识产权局数据,仅供参考,实际以国家知识产权局展示为准

高阶负型光阻剥膜槽

实用新型专利有效专利
  • 申请号:
    CN201821463125.8
  • IPC分类号:G03F7/42
  • 申请日期:
    2018-09-07
  • 申请人:
    王彦智
著录项信息
专利名称高阶负型光阻剥膜槽
申请号CN201821463125.8申请日期2018-09-07
法律状态暂无申报国家中国
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/42IPC分类号G;0;3;F;7;/;4;2查看分类表>
申请人王彦智申请人地址
江苏省苏州市工业园区东旺路8号7幢4楼401室 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人盛青永致半导体设备(苏州)有限公司当前权利人盛青永致半导体设备(苏州)有限公司
发明人王彦智
代理机构昆山中际国创知识产权代理有限公司代理人张文婷
摘要
本实用新型公开了一种高阶负型光阻剥膜槽,包括用于盛装剥膜液的主槽体,主槽体内设有用于固定待剥膜的基板的挂架和能够使剥膜液产生涡流的摇摆机构;主槽体的上端设有循环槽以及底部设有循环管道,该循环管道从主槽体的外部连通至循环槽,循环管道上设有用于使膜渣和溶液分离的系统马达和用于过滤分离后的溶液的过滤器。该高阶负型光阻剥膜槽通过摇摆机构形成的涡流将光刻胶干膜溶解,使干膜细小化,不仅浸泡时间短,剥膜速度快,产能高,而且对高纵横比/高深宽比的剥膜制程,于基板底部不留干膜,产品良率大大提高。

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