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晶片吸附方法、晶片吸附台、晶片吸附系统

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201210434807.7
  • IPC分类号:H01L21/683
  • 申请日期:
    2012-11-05
  • 申请人:
    三菱电机株式会社
著录项信息
专利名称晶片吸附方法、晶片吸附台、晶片吸附系统
申请号CN201210434807.7申请日期2012-11-05
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2013-10-23公开/公告号CN103367218A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/683IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;6;8;3查看分类表>
申请人三菱电机株式会社申请人地址
日本东京都 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人三菱电机株式会社当前权利人三菱电机株式会社
发明人秋山肇;冈田章;山下钦也
代理机构北京天昊联合知识产权代理有限公司代理人何立波;张天舒
摘要
本发明的目的在于,提供一种能够以低成本在不使晶片变形的情况下以充分的吸附压力将晶片吸附于台的晶片吸附方法、晶片吸附台、以及晶片吸附系统。本申请发明的晶片吸附台是在内部具有空间的晶片吸附台,具备:装载面,装载晶片;多孔质部,以表面露出于该装载面、背面与该空间相接的方式形成在该晶片吸附台内;以及连结部,与该空间连接并且延伸至该晶片吸附台外部。而且,该多孔质部的特征在于越是远离该连结部的部分形成得越薄。

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