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用于光学临近修正的图形量测方法及装置

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202110526428.X
  • IPC分类号:G03F7/20
  • 申请日期:
    2021-05-14
  • 申请人:
    长鑫存储技术有限公司
著录项信息
专利名称用于光学临近修正的图形量测方法及装置
申请号CN202110526428.X申请日期2021-05-14
法律状态实质审查申报国家暂无
公开/公告日2021-08-24公开/公告号CN113296369A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/20IPC分类号G;0;3;F;7;/;2;0查看分类表>
申请人长鑫存储技术有限公司申请人地址
安徽省合肥市经济技术开发区空港工业园兴业大道388号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人长鑫存储技术有限公司当前权利人长鑫存储技术有限公司
发明人薛武子
代理机构上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙)代理人孙佳胤
摘要
本发明提供了一种用于光学临近修正的图形量测方法,所述方法包括:电子束扫描测试样本,提取所述测试样本的特征尺寸以及边缘尺寸;将提取的特征尺寸以及边缘尺寸与标准值作比较,获得差值;根据上述差值调整电子束,直到提取的测试样本的特征尺寸以及边缘尺寸与标准值的偏差小于一设定阈值;记录上述步骤获得的电子束调整的参数值,用于检测后续的二维图形。上述技术方案使得测量尺寸更精确,提高光学临近修正的效果。

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