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精密双面抛光机

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200710068277.8
  • IPC分类号:B24B29/00;B24B47/12
  • 申请日期:
    2007-05-09
  • 申请人:
    浙江工业大学
著录项信息
专利名称精密双面抛光机
申请号CN200710068277.8申请日期2007-05-09
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2007-10-10公开/公告号CN101049678
优先权暂无优先权号暂无
主分类号B24B29/00IPC分类号B;2;4;B;2;9;/;0;0;;;B;2;4;B;4;7;/;1;2查看分类表>
申请人浙江工业大学申请人地址
浙江省杭州市下城区朝晖六区 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人浙江工业大学当前权利人浙江工业大学
发明人李伟;胡晓冬;阮健
代理机构杭州天正专利事务所有限公司代理人王兵;王利强
摘要
一种精密双面抛光机,包括机架、主轴传动机构、上抛光盘传动机构,主轴传动机构连接下抛光盘、内齿圈、外齿圈以及与上抛光盘配合的连接件,内齿圈与外齿圈之间啮合用于放置工件的行星轮,上抛光盘传动机构位于主轴传动机构的上方,上抛光盘传动机构包括安装在机架上的驱动装置,驱动装置带有活塞杆,活塞杆与上抛光盘连接,采用四个变频电机拖动上下抛盘、内齿圈、外齿圈的四动抛光原理来进行传动系统的设计,且采用轴套结构使四轴同心;驱动装置连接用于调节加载压力大小的压力调节阀,在活塞杆与上抛光盘的连接处安装压力传感器,能够精确控制上抛光盘的压力。本发明结构紧凑、可实现无级调速、加工过程平稳性佳、可有效提升抛光效率。

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