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射频CMOS集成电感中的接地环结构

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN200710094277.5
  • IPC分类号:H01L27/02
  • 申请日期:
    2007-11-23
  • 申请人:
    上海华虹NEC电子有限公司
著录项信息
专利名称射频CMOS集成电感中的接地环结构
申请号CN200710094277.5申请日期2007-11-23
法律状态暂无申报国家中国
公开/公告日2009-05-27公开/公告号CN101442048
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L27/02IPC分类号H;0;1;L;2;7;/;0;2查看分类表>
申请人上海华虹NEC电子有限公司申请人地址
变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人上海华虹宏力半导体制造有限公司当前权利人上海华虹宏力半导体制造有限公司
发明人蔡描
代理机构上海浦一知识产权代理有限公司代理人顾继光
摘要
本发明公开了一种射频CMOS集成电感中的接地环结构,该接地环由有源区和第一层金属组成,所述的有源区和第一层金属是断开的,形成接地环断开口。本发明通过断开接地环有源区及其上层连线金属,使得电感周围无法形成闭合环路,以减小磁场能量在接地环上的损耗,从而避免Q值大幅度下降。本发明在提高抗噪声能力的前提下,保证了一定的Q值,又不额外增加电感的面积,不会额外增加制作成本。

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