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半导体器件及有与背面电极直接邻接区的RC‑IGBT

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201510163929.0
  • IPC分类号:H01L27/06;H01L29/739;H01L29/06;H01L21/82;H01L21/335
  • 申请日期:
    2015-02-17
  • 申请人:
    英飞凌科技股份有限公司
著录项信息
专利名称半导体器件及有与背面电极直接邻接区的RC‑IGBT
申请号CN201510163929.0申请日期2015-02-17
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2015-08-26公开/公告号CN104867925A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L27/06IPC分类号H;0;1;L;2;7;/;0;6;;;H;0;1;L;2;9;/;7;3;9;;;H;0;1;L;2;9;/;0;6;;;H;0;1;L;2;1;/;8;2;;;H;0;1;L;2;1;/;3;3;5查看分类表>
申请人英飞凌科技股份有限公司申请人地址
德国瑙伊比贝尔格市坎芘昂1-12号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人英飞凌科技股份有限公司当前权利人英飞凌科技股份有限公司
发明人F·D·普菲尔施;D·韦伯
代理机构中国专利代理(香港)有限公司代理人蒋骏;徐红燕
摘要
本发明涉及半导体器件及有与背面电极直接邻接区的RC‑IGBT。一种半导体器件,包括在半导体主体中的第一导电类型的漂移区,配置以在第一状态中形成与漂移区连接的导电沟道的可控单元。第一导电类型的第一区以及互补第二导电类型的第二区和第三区分别在漂移区和背面电极之间。第一、第二和第三区直接邻接背面电极。其中第三区相比于第二区更大且具有较低的平均发射极效率。

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