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加工砷化镓单晶基准面的装置

实用新型专利有效专利
  • 申请号:
    CN201822020017.X
  • IPC分类号:B28D5/04;B28D7/00;B28D7/04
  • 申请日期:
    2018-12-04
  • 申请人:
    有研光电新材料有限责任公司
著录项信息
专利名称加工砷化镓单晶基准面的装置
申请号CN201822020017.X申请日期2018-12-04
法律状态授权申报国家暂无
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号B28D5/04IPC分类号B;2;8;D;5;/;0;4;;;B;2;8;D;7;/;0;0;;;B;2;8;D;7;/;0;4查看分类表>
申请人有研光电新材料有限责任公司申请人地址
河北省廊坊市廊坊开发区百合道4号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人有研光电新材料有限责任公司当前权利人有研光电新材料有限责任公司
发明人越云雷;李爱兵;于洪国;赵敬平;林泉;马英俊;许所成
代理机构北京辰权知识产权代理有限公司代理人佟林松
摘要
本实用新型涉及一种加工砷化镓单晶基准面的装置,包括桌架和排水结构;桌架包括一水平桌板,于桌板上开设若干个通孔,排水结构设置于桌板的背面,通孔与排水结构连通。本实用新型的实施方式通过设置水平桌板,这样砷化镓单晶经过水平桌板处理得到的基准面更加平滑,使得砷化镓单晶能够快速、方便粘胶、切片,从而实现降低工作劳动强度、减少成本、提高生产效率的目的。

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