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光刻装置和器件制造方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN200410047698.9
  • IPC分类号:G03F7/20;H01L21/00
  • 申请日期:
    2004-06-09
  • 申请人:
    ASML荷兰有限公司
著录项信息
专利名称光刻装置和器件制造方法
申请号CN200410047698.9申请日期2004-06-09
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2005-02-02公开/公告号CN1573564
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/20IPC分类号G;0;3;F;7;/;2;0;;;H;0;1;L;2;1;/;0;0查看分类表>
申请人ASML荷兰有限公司申请人地址
荷兰维尔德霍芬 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人ASML荷兰有限公司当前权利人ASML荷兰有限公司
发明人J·洛夫;H·布特勒;S·N·L·当德斯;A·科勒斯辰科;E·R·鲁普斯特拉;H·J·M·梅杰;J·C·H·穆肯斯;R·A·S·里特塞马;F·范沙克;T·F·森格斯;K·西蒙;J·T·德斯米特;A·斯特拉艾杰;B·斯特里科克;E·T·M·比拉尔特;C·A·胡根达姆;H·范桑坦;M·A·范德科霍夫;M·克鲁恩;A·J·登博夫;J·J·奥坦斯;J·J·S·M·梅坦斯
代理机构中科专利商标代理有限责任公司代理人王波波
摘要
本发明公开了一种光刻投影装置,在该装置中投影系统的最后元件和传感器之间的空间填充有液体。

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