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在电路基片上钻孔的方法及装置

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200380110303.9
  • IPC分类号:B23K26/38;H05K3/00
  • 申请日期:
    2003-11-26
  • 申请人:
    日立比亚机械股份有限公司
著录项信息
专利名称在电路基片上钻孔的方法及装置
申请号CN200380110303.9申请日期2003-11-26
法律状态撤回申报国家中国
公开/公告日2006-06-07公开/公告号CN1784287
优先权暂无优先权号暂无
主分类号B23K26/38IPC分类号B;2;3;K;2;6;/;3;8;;;H;0;5;K;3;/;0;0查看分类表>
申请人日立比亚机械股份有限公司申请人地址
日本神奈川县 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人日立比亚机械股份有限公司当前权利人日立比亚机械股份有限公司
发明人约翰尼斯·斯克扎特;德克·希勒布兰德;汉斯·J.·梅耶尔;丹尼尔·麦兹
代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所代理人董莘
摘要
在要钻的孔(15)的区域内借助于激光束(2)的圆周运动来进行钻孔,使得能够借助激光束在电路板基片上钻孔。激光束通过两个相继连接的耦合元件(3,5)被位移。第一耦合元件(3),优选包含检流计镜,引起激光束(2)从一个钻孔位置跳跃(17)到相应的后继钻孔位置(15),并且使其定心在相应的钻孔位置。第二耦合元件,优选由压电元件构成,调制激光束(2)的连续圆周运动。激光仅当第一耦合元件(3)静止时才被接通。通过省却运动区段之间过渡中的等待时间,改善了孔的质量,并获得了更高产量。

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