硅片湿法刻蚀设备

实用新型专利无效专利

申请号：
CN201420094207.5
IPC分类号：C23F1/08
申请日期：
2014-03-03
申请人：
常州天合光能有限公司

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著录项信息

专利名称	硅片湿法刻蚀设备
申请号	CN201420094207.5	申请日期	2014-03-03
法律状态	放弃专利权	申报国家	中国
公开/公告日		公开/公告号
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C23F1/08 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕 C23F 非机械方法去除表面上的金属材料（电浸蚀法加工金属入B23H；火焰法清除表层金属材料入B23K 7/00；用激光束加工金属入B23K 26/00）；金属材料的缓蚀；一般防积垢（电解或电泳法处理金属表面或金属覆层入C25D，C25F）；至少一种在C23大类中所列的方法及至少一种在C21D、C22F小类或者C25大类中所列的方法之多步法金属材料表面处理〔4〕 C23F1/00 金属材料的化学法蚀刻〔2〕 C23F1/08 装置，如照相印刷制版装置	IPC分类号	C;2;3;F;1;/;0;8查看分类表>
申请人	常州天合光能有限公司	申请人地址	江苏省常州市新北区电子产业园天合路2号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	常州天合光能有限公司	当前权利人	常州天合光能有限公司
发明人	卫志敏;肖新民;丁志强;祁宏山;王文杰;彭文龙
代理机构	常州市维益专利事务所	代理人	张晓东

摘要

本实用新型涉及一种硅片湿法刻蚀设备，包括输送滚轮、储液盒和进液管道，储液盒内具有储液腔体，储液盒设置在输送滚轮的上方，反应液通过进液管道进入储液盒，储液盒的底部设置多个将反应液喷向通过输送滚轮输送的硅片的上表面的喷液孔。反应液从硅片上方的储液盒的喷液孔均匀喷向通过其下方的硅片，使反应液在硅片表面溢流。本实用新型的有益效果是：通过喷射反应液，使反应液在硅片表面溢流，即提高了反应液与硅片的反应速率，又保证了刻蚀均匀性。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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