成膜装置、薄膜的制造装置及成膜方法

发明专利有效专利

申请号：
CN200680001338.2
IPC分类号：C23C14/56;H01L51/50;C23C14/24;H05B33/10
申请日期：
2006-06-08
申请人：
株式会社爱发科

基础信息

权利要求

说明书

PDF全文

法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	成膜装置、薄膜的制造装置及成膜方法
申请号	CN200680001338.2	申请日期	2006-06-08
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2007-11-07	公开/公告号	CN101068949
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C23C14/56 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕 C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆（挤压法制造包覆金属的产品入B21C23/22；通过将预先存在的薄层连接到制品上的方法用金属进行镀覆处理的见各有关位置，例如B21D39/00，B23K；玻璃的金属化入C03C；砂浆、混凝土、人造石、陶瓷或天然石的金属化入C04B41/00；金属的搪瓷或向金属上镀覆玻璃体层入c23D；用电解法或电泳法处理金属表面或镀覆金属入C25D；单晶膜生长入C30B；纺织品的金属化入D06M11/83；用局部金属化法装饰纺织品入D06Q1/04）〔4〕 C23C14/00 通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆〔4，2006.01〕 C23C14/22 以镀覆工艺为特征的〔4〕 C23C14/56 连续镀覆的专用设备；维持真空的装置，例如真空锁定器〔4〕	IPC分类号	C;2;3;C;1;4;/;5;6;;;H;0;1;L;5;1;/;5;0;;;C;2;3;C;1;4;/;2;4;;;H;0;5;B;3;3;/;1;0查看分类表>
申请人	株式会社爱发科	申请人地址	日本神奈川县变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	株式会社爱发科	当前权利人	株式会社爱发科
发明人	根岸敏夫
代理机构	中国专利代理（香港）有限公司	代理人	温大鹏

摘要

在短时间内实现多个膜的层叠。本发明的成膜装置(5R、5G、5B)具有移动室(45)和转台(51)，在转台(51)的窗部(52)上搭载有载置基板(9)的载置板(61)。使转台(51)旋转而移动窗部(52)时，载置板(61)在搭载基板(9)情况下与窗部(52)一起移动。使转台(51)旋转既定角度，从搬入场所(56a)输送新的基板(9)，将成膜处理后的基板(9)输送至其他成膜场所(57)，使空的载置板(61)从搬出场所(56b)暂时返回至搬入场所(56a)，因此可缩短将基板(9)搬送至各场所(56a、56b、57)的时间或载置板(61)返回的时间。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有被任何外部专利所引用！

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供