一种NiV合金金相试样的制备方法

发明专利有效专利

申请号：
CN202010555893.1
IPC分类号：G01N1/28;G01N1/32
申请日期：
2020-06-17
申请人：
宁波江丰电子材料股份有限公司

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著录项信息

专利名称	一种NiV合金金相试样的制备方法
申请号	CN202010555893.1	申请日期	2020-06-17
法律状态	实质审查	申报国家	中国
公开/公告日	2020-09-25	公开/公告号	CN111707513A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G01N1/28 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G01 测量；测试 G01N （除免疫测定法以外包括酶或微生物的测量或试验入C12M，C12Q） G01N1/00 取样；制备测试用的样品（用于自动分析的材料处理入G01N 35/00） G01N1/28 测试用样品的制备（将样品安装在显微镜载片上入G02B 21/34；电子显微镜中支承被分析的物品或材料的装置入H01J 37/20）	IPC分类号	G;0;1;N;1;/;2;8;;;G;0;1;N;1;/;3;2查看分类表>
申请人	宁波江丰电子材料股份有限公司	申请人地址	浙江省宁波市余姚市经济开发区名邦科技工业园区安山路变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	宁波江丰电子材料股份有限公司	当前权利人	宁波江丰电子材料股份有限公司
发明人	姚力军;潘杰;边逸军;王学泽;龚润泽
代理机构	北京远智汇知识产权代理有限公司	代理人	王岩

摘要

本发明公开了一种NiV合金金相试样的制备方法。本发明的NiV合金金相试样的制备方法，包括如下步骤：1)切样：将NiV合金材料切块状小样；2)研磨：将步骤1)得到的小样进行粗磨和细磨；3)电解抛光：将经步骤2)研磨的试样进行电解抛光处理；4)腐蚀：将经步骤3)电解抛光处理后的试样进行腐蚀处理，得到所述NiV合金金相试样。本发明的NiV合金金相试样的制备方法，制得的NiV合金金相试样，用于金相分析时，能够清晰且正确的观察到材料的金相显微组织，有助于提高金相分析的准确性。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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