采用磁控溅射和离子注入结合的制备生物传感材料的方法

发明专利有效专利

申请号：
CN201710429218.2
IPC分类号：C23C14/35;C23C14/08;C23C14/48
申请日期：
2017-06-08
申请人：
南京理工大学

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著录项信息

专利名称	采用磁控溅射和离子注入结合的制备生物传感材料的方法
申请号	CN201710429218.2	申请日期	2017-06-08
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2018-12-18	公开/公告号	CN109023270A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C23C14/35 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕 C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆（挤压法制造包覆金属的产品入B21C23/22；通过将预先存在的薄层连接到制品上的方法用金属进行镀覆处理的见各有关位置，例如B21D39/00，B23K；玻璃的金属化入C03C；砂浆、混凝土、人造石、陶瓷或天然石的金属化入C04B41/00；金属的搪瓷或向金属上镀覆玻璃体层入c23D；用电解法或电泳法处理金属表面或镀覆金属入C25D；单晶膜生长入C30B；纺织品的金属化入D06M11/83；用局部金属化法装饰纺织品入D06Q1/04）〔4〕 C23C14/00 通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆〔4，2006.01〕 C23C14/22 以镀覆工艺为特征的〔4〕 C23C14/34 溅射〔4〕 C23C14/35 利用磁场的，例如磁控溅射〔5〕	IPC分类号	C;2;3;C;1;4;/;3;5;;;C;2;3;C;1;4;/;0;8;;;C;2;3;C;1;4;/;4;8查看分类表>
申请人	南京理工大学	申请人地址	江苏省南京市玄武区孝陵卫200号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	南京理工大学	当前权利人	南京理工大学
发明人	杨加志;李文萍;陈春涛;刘晓慧
代理机构	南京理工大学专利中心	代理人	薛云燕

摘要

本发明公开了一种采用磁控溅射和离子注入结合的制备生物传感材料的方法。该方法具体如下：玻璃基底和靶材ITO的预处理：制取玻璃基底备用，对玻璃基底和靶材ITO分别进行清洗；将预处理好的玻璃基底和靶材ITO放入磁控溅射镀膜机，采用射频溅射靶在氩气气氛中，依次控制磁溅射时间、功率、压强，将靶材ITO镀膜至玻璃基底表面并作为离子注入基底；将离子注入基底依次用砂子打磨并抛光，再用丙酮、无水乙醇超声波清洗后干燥备用；采用离子注入机进行Pt离子注入，控制注入角度、真空度、加速电压和剂量，最终得到生物传感材料。本发明制备方法简单，极大地满足了各种新型电子元器件发展的需求，尺寸更加精细，掺杂量更加精确。

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该专利没有引用任何外部专利数据！

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