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应用于光刻的光瞳相位优化方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201910093998.7
  • IPC分类号:G03F7/20
  • 申请日期:
    2019-01-30
  • 申请人:
    北京理工大学
著录项信息
专利名称应用于光刻的光瞳相位优化方法
申请号CN201910093998.7申请日期2019-01-30
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2019-04-16公开/公告号CN109634069A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/20IPC分类号G;0;3;F;7;/;2;0查看分类表>
申请人北京理工大学申请人地址
北京市海淀区中关村南大街5号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人北京理工大学当前权利人北京理工大学
发明人李艳秋;李铁;闫旭;刘阳;孙义钰
代理机构北京理工大学专利中心代理人郭德忠;李爱英
摘要
本发明提供一种应用于光刻的光瞳相位优化方法,将光瞳相位分布作为优化变量,扩大了优化自由度,因此,本发明能够进一步降低光刻成像误差,提高光刻成像质量;同时,本发明将目标函数构造为各视场点成像保真度函数的平均值,而各视场点成像保真度函数与各视场对应的图形像差有关,从而在优化过程中综合考虑了光刻物镜的全视场像差信息,因此,本发明优化得到的光瞳相位分布,不只适用于特定视场点的光刻成像,而且适用于全视场光刻成像;由此可见,本发明有助于提高实际工况中的三维掩模和含有像差的大视场光刻物镜的全视场光刻成像保真度,提高光刻工艺稳定性。

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