聚合物,光致抗蚀剂组合物和形成光刻图案的方法

发明专利有效专利

申请号：
CN201110463318.X
IPC分类号：C08F220/32;C08F222/14;G03F7/004;G03F7/00
申请日期：
2011-12-31
申请人：
罗门哈斯电子材料有限公司;陶氏环球技术有限公司

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专利名称	聚合物,光致抗蚀剂组合物和形成光刻图案的方法
申请号	CN201110463318.X	申请日期	2011-12-31
法律状态	授权	申报国家	暂无
公开/公告日	2012-08-01	公开/公告号	CN102617790A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C08F220/32 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C0 化学 C08 有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物 C08F 仅用碳-碳不饱和键反应得到的高分子化合物（由低碳烃制造液态烃混合物，例如通过齐聚作用入C10G 50/00；发酵或使用酶的方法合成目标化合物或组合物或从外消旋混合物中分离旋光异构体入C12P；含有碳-碳不饱和键的单体接枝聚合到纤维、丝线、纱线、织物或用这些材料制成的纤维制品入D06M 14/00）〔2〕 C08F220/00 具有1个或更多不饱和脂族基化合物的共聚物，每个不饱和脂族基只有1个碳-碳双键，并且只有1个是仅以羧基或它的盐、酐、酯、酰胺、酰亚胺或腈为终端〔2〕 C08F220/02 具有少于10个碳原子的一元羧酸；它的衍生物〔2〕 C08F220/10 酯〔2〕 C08F220/26 除羧基的氧外还含其他氧的酯〔2〕 C08F220/32 含环氧基团〔2〕	IPC分类号	C;0;8;F;2;2;0;/;3;2;;;C;0;8;F;2;2;2;/;1;4;;;G;0;3;F;7;/;0;0;4;;;G;0;3;F;7;/;0;0查看分类表>
申请人	罗门哈斯电子材料有限公司;陶氏环球技术有限公司	申请人地址	美国马萨诸塞州变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	罗门哈斯电子材料有限公司,陶氏环球技术有限公司	当前权利人	罗门哈斯电子材料有限公司,陶氏环球技术有限公司
发明人	Y·C·裴;M·M·梅耶;孙纪斌;李承泫;朴钟根
代理机构	上海专利商标事务所有限公司	代理人	陈哲锋

摘要

聚合物，光致抗蚀剂组合物和形成光刻图案的方法。提供包含具有特定乙缩醛部分的单元的聚合物和包含有这种聚合物的光致抗蚀剂组合物。同样提供光致抗蚀剂组合物涂覆的基体和形成光刻图案的方法。提供了一种聚合物，所述聚合物包括：由下述通式(I)单体形成的第一单元：其中R1代表氢或C1到C3烷基；R2代表单键或C1到C10有机基团；R3代表氢原子或C1到C10有机基团；R4各自独立的代表氢原子或C1到C10有机基团，键合在共有碳原子上的R4基团任选一起形成环；以及R5各自独立代表C1到C10有机基团，任选一起形成环；以及含有内酯部分的第二单元。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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