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在高纯碳化硅晶体中产生半绝缘电阻率的方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN03814624.X
  • IPC分类号:H01L21/324;C30B33/02;C30B29/36
  • 申请日期:
    2003-06-10
  • 申请人:
    克里公司
著录项信息
专利名称在高纯碳化硅晶体中产生半绝缘电阻率的方法
申请号CN03814624.X申请日期2003-06-10
法律状态授权申报国家暂无
公开/公告日2005-08-31公开/公告号CN1663033
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/324IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;3;2;4;;;C;3;0;B;3;3;/;0;2;;;C;3;0;B;2;9;/;3;6查看分类表>
申请人克里公司申请人地址
美国北卡罗莱纳 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人克里公司当前权利人克里公司
发明人贾森·R.·詹妮;戴维·P.·马尔塔;赫德森·M.·霍布古德;斯蒂芬·G.·米勒
代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所代理人秦晨
摘要
本发明公开了一种方法,用于在没有相关数量深层级捕获元素的情况制造高品质半绝缘碳化硅晶体。本发明包括如下步骤:将具有与深层级状态相关的第一点缺陷浓度的碳化硅晶体加热到一定的温度,该温度高于碳化硅从源气体进行CVD生长所需的温度,但低于碳化硅在环境条件下的升华温度,借此在热力学上增加晶体中点缺陷和由此产生的状态的浓度,然后以足够快的速度将加热的晶体冷却到接近室温,使冷却晶体中点缺陷的浓度保持大于第一浓度。

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