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光刻装置和调节器件制造装置的内部空间的方法

发明专利无效专利

申请号：
CN200610142098.X
IPC分类号：G03F7/20;H01L21/027
申请日期：
2006-09-29
申请人：
ASML荷兰有限公司

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权利要求

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法律信息

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著录项信息

专利名称	光刻装置和调节器件制造装置的内部空间的方法
申请号	CN200610142098.X	申请日期	2006-09-29
法律状态	权利终止	申报国家	暂无
公开/公告日	2007-04-04	公开/公告号	CN1940728
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F7/20 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F7/00 图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L 21/00，H05K）〔3，5〕 G03F7/20 曝光及其设备（复制用照相印制设备入G03B 27/00）〔4〕	IPC分类号	G;0;3;F;7;/;2;0;;;H;0;1;L;2;1;/;0;2;7查看分类表>
申请人	ASML荷兰有限公司	申请人地址	荷兰费尔德霍芬变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	ASML荷兰有限公司	当前权利人	ASML荷兰有限公司
发明人	T·A·R·范恩佩尔;R·范德哈姆;N·J·J·罗塞特
代理机构	中科专利商标代理有限责任公司	代理人	王波波

摘要

一种光刻装置，包括配置成向所述装置的内部空间供给第一气流的至少一个第一气体喷头和配置成向所述装置的内部空间供给第二气流的至少一个第二气体喷头，其中所述气体喷头配置成将第一气流和第二气流至少部分地朝向彼此引导。还提供一种方法，其用于调节器件制造装置的内部空间，其中第一调节气流和第二调节气流被供给到所述内部空间，使得第一调节气流和第二调节气流至少部分地向彼此引导。

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