考虑静态与正弦压力变化的双用光学压力敏感涂料校准舱

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专利名称	考虑静态与正弦压力变化的双用光学压力敏感涂料校准舱
申请号	CN201910367419.3	申请日期	2019-05-05
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2019-07-23	公开/公告号	CN110044545A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G01L27/00	IPC分类号	G;0;1;L;2;7;/;0;0查看分类表>
申请人	西北工业大学	申请人地址	陕西省西安市友谊西路127号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	西北工业大学	当前权利人	西北工业大学
发明人	高丽敏;姜衡;葛宁;马驰;高天宇
代理机构	西北工业大学专利中心	代理人	暂无

摘要

本发明涉及一种考虑静态与正弦压力变化的双用光学压力敏感涂料校准舱，通过对透明视窗处结构的改进以及多处密封的设计，保证了静态与正弦压力变化两者模式的密封性；同时对静态使用时，专门设计了用于连接电磁阀的静态头，以满足静态模式的测量，本发明实现了一套系统能实现两者模式的兼容测量，节约成本，加工性强。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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