用于在激光烧结中避免在光学组件处的沉积的设备

发明专利有效专利

申请号：
CN201210408950.9
IPC分类号：B29C67/04;B29L11/00
申请日期：
2012-10-24
申请人：
赢创工业集团股份有限公司

基础信息

权利要求

说明书

PDF全文

法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	用于在激光烧结中避免在光学组件处的沉积的设备
申请号	CN201210408950.9	申请日期	2012-10-24
法律状态	暂无	申报国家	中国
公开/公告日	2013-05-01	公开/公告号	CN103072282A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	B29C67/04 ? IPC结构图谱： B 作业；运输 B2 成型 B29 塑料的加工；一般处于塑性状态物质的加工 B29C 塑料的成型或连接；塑性状态材料的成型，不包含在其他类目中的；已成型产品的后处理，例如修整（制作预型件入B29B 11/00；通过将原本不相连接的层结合成为各层连在一起的产品来制造层状产品入B32B 7/00至B32B 41/00）〔4〕 B29C67/00 不包含在B29C39/00至B29C65/00，B29C70/00或B29C73/00组中的成型技术〔4，6，2006.01，2017.01〕 B29C67/02 通过聚结成型〔4，2006.01，2017.01〕 B29C67/04 烧结（与压铸结合的入B29C43/00）〔4，2006.01，2017.01〕	IPC分类号	B;2;9;C;6;7;/;0;4;;;B;2;9;L;1;1;/;0;0查看分类表>
申请人	赢创工业集团股份有限公司	申请人地址	德国埃森变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	赢创运营有限公司	当前权利人	赢创运营有限公司
发明人	M.格雷贝;S.黑泽尔-格尔德曼;W.迪克曼
代理机构	中国专利代理（香港）有限公司	代理人	李少丹;卢江

摘要

本发明涉及用于在激光烧结中避免在光学组件处的沉积的设备。用于逐层地制造三维对象的设备包括结构空间（19），其具有高度可调整的结构平台（6）、用于将通过电磁辐射的作用可固化的材料的层施加到结构平台（6）上的设备（7）、用于照射所述层的与对象（5）对应的位置的照射装置，所述照射装置包括发射电磁辐射的辐射源（1）、控制单元（3）和处于电磁辐射的光路中的透镜（8），其中，所述设备具有至少一个处于结构空间中或外部的淀积表面（9，13，18）。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有被任何外部专利所引用！

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供