微透镜阵列的形成方法

发明专利有效专利

申请号：
CN202011136463.2
IPC分类号：G02B3/00;G03F7/16;G03F7/40;H01L27/146
申请日期：
2020-10-22
申请人：
晶芯成（北京）科技有限公司

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著录项信息

专利名称	微透镜阵列的形成方法
申请号	CN202011136463.2	申请日期	2020-10-22
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2020-12-01	公开/公告号	CN112014910A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G02B3/00 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G02 光学 G02B 光学元件、系统或仪器（G02F优先；专用于照明装置或系统的光学元件入F21V 1/00至F21V 13/00；测量仪器见G01类的有关小类，例如，光学测距仪入G01C；光学元件、系统或仪器的测试入G01M 11/00；眼镜入G02C；摄影、放映或观看用的装置或设备入G03B；声透镜入G10K 11/30；电子和离子“光学”入H01J；X射线“光学”入H01J，H05G 1/00；结构上与放电管相组合的光学元件入H01J 5/16，H01J 29/89，H01J 37/22；微波“光学”入H01Q；光学元件与电视接收机的组合装置入H04N 5/72；彩色电视系统中的光学系统或装置入H04N 9/00；专门适用于透明或反射区的加热装置入H05B 3/84）〔1，7〕 G02B3/00 简单或复合透镜（人造眼入A61F 2/14；眼睛用透镜或接触透镜入G02C；钟表玻璃入G04B 39/00）	IPC分类号	G;0;2;B;3;/;0;0;;;G;0;3;F;7;/;1;6;;;G;0;3;F;7;/;4;0;;;H;0;1;L;2;7;/;1;4;6查看分类表>
申请人	晶芯成（北京）科技有限公司	申请人地址	北京市大兴区北京经济技术开发区科创十三街29号院一区2号楼13层1302-C54 变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	晶芯成（北京）科技有限公司	当前权利人	晶芯成（北京）科技有限公司
发明人	吴建宏;林士程;王厚有
代理机构	上海思微知识产权代理事务所（普通合伙）	代理人	曹廷廷

摘要

本发明提供了一种微透镜阵列的形成方法，包括提供半导体衬底，所述半导体衬底包括像素区域和外围区域；在所述半导体衬底上涂布光刻胶并对所述光刻胶进行烘烤，利用所述像素区域和所述外围区域存在的台阶，在所述像素区域形成具有一定形貌的光刻胶层；对所述光刻胶层进行光刻作业，以在所述像素区域形成微透镜阵列。本发明先利用半导体衬底上像素区域和外围区域存在的台阶，在像素区域形成具有一定形貌的光刻胶层，然后通过光刻工艺形成微透镜阵列，使像素区域的中心和像素区域的边缘上的微透镜具有不同的曲率，实现CRA优化，减小像差。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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