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用于防止基体的周边曝光的光刻设备及方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201780011544.X
  • IPC分类号:G03F7/20
  • 申请日期:
    2017-02-15
  • 申请人:
    库力&索法利特克有限公司
著录项信息
专利名称用于防止基体的周边曝光的光刻设备及方法
申请号CN201780011544.X申请日期2017-02-15
法律状态授权申报国家暂无
公开/公告日2018-12-21公开/公告号CN109073982A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/20IPC分类号G;0;3;F;7;/;2;0查看分类表>
申请人库力&索法利特克有限公司申请人地址
荷兰埃因霍温 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人库力&索法利特克有限公司当前权利人库力&索法利特克有限公司
发明人阿德里安努斯·约翰内斯·帕特鲁斯·玛利亚·维梅尔
代理机构北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司代理人王达佐;王艳春
摘要
用于防止基体(S)的周边部分(P)曝光的光刻设备(10)和方法。边缘屏蔽件(M)具有延伸经过小于圆弧的一半的径向凹形边缘(E)。该边缘屏蔽件(M)连接至屏蔽件承载件(4),该屏蔽件承载件(4)环行该投射系统(2),以调整该边缘屏蔽件(M)相对于该投射系统(2)的光轴(A)的切向坐标(Φ)和径向坐标(R),以在可变距离处将该边缘屏蔽件(M)插入该辐射束(B)。协调该边缘屏蔽件(M)的切向位置(Φ)和径向位置(R)与该基体(S)的变动位置(X,Y),以防止该基体(S)的该周边部分(P)在目标区域(T)的曝光期间曝光。

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