利用椭圆截面光斑对磁片进行表面处理的激光划刻设备

发明专利有效专利

申请号：
CN200980129125.1
IPC分类号：--
申请日期：
2009-07-13
申请人：
R.T.M.股份公司;根集团责任有限公司;马泰奥·巴伊斯特罗基

基础信息

权利要求

说明书

PDF全文

法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	利用椭圆截面光斑对磁片进行表面处理的激光划刻设备
申请号	CN200980129125.1	申请日期	2009-07-13
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2011-06-22	公开/公告号	CN102105258A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	暂无	IPC分类号	暂无查看分类表>
申请人	R.T.M.股份公司;根集团责任有限公司;马泰奥·巴伊斯特罗基	申请人地址	意大利阿格利变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	R.T.M.股份公司,根集团责任有限公司,马泰奥·巴伊斯特罗基	当前权利人	R.T.M.股份公司,根集团责任有限公司,马泰奥·巴伊斯特罗基
发明人	马泰奥·巴伊斯特罗基;M·巴伊斯特罗基;G·萨万特-艾拉;F·马里奥蒂;M·佩纳斯
代理机构	北京市中咨律师事务所	代理人	吴鹏;马江立

摘要

本发明涉及一种用于在带材(26)沿纵向运动时处理取向晶粒磁片的激光划刻设备(22)，包括用于激光束(46a，46b)的激光发生器、具有可变焦距以形成具有根据焦距而变化的椭圆率的椭圆截面激光束(49a，49b)的柱状伸缩式光学装置组(38a，38b)、以及用于根据预定角度扫描激光束的可旋转镜面扫描器(39a，39b)。该划刻设备(22)还包括横向于带材(26)延伸的抛物面镜(54)，以便接收扫描激光束(51a，51b)并将该光束在带材(26)上沿处理路径(53a，53b)聚焦成大大伸长的椭圆光斑(55)，其中，所述伸缩式光学装置组(38a，38b)可调节以改变投射在带材(26)上的激光束(52a，52b)的椭圆截面中的一个轴的长度。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有被任何外部专利所引用！

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供