首页专利查询专利详情

*来源于国家知识产权局数据，仅供参考，实际以国家知识产权局展示为准

器件制造方法和计算机程序产品

发明专利无效专利

申请号：
CN200610169099.3
IPC分类号：G03F7/20;H01L21/027
申请日期：
2006-12-20
申请人：
ASML荷兰有限公司

基础信息

权利要求

说明书

PDF全文

法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	器件制造方法和计算机程序产品
申请号	CN200610169099.3	申请日期	2006-12-20
法律状态	撤回	申报国家	中国
公开/公告日	2007-06-27	公开/公告号	CN1987658
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F7/20 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F7/00 图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L 21/00，H05K）〔3，5〕 G03F7/20 曝光及其设备（复制用照相印制设备入G03B 27/00）〔4〕	IPC分类号	G;0;3;F;7;/;2;0;;;H;0;1;L;2;1;/;0;2;7查看分类表>
申请人	ASML荷兰有限公司	申请人地址	荷兰费尔德霍芬变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	ASML荷兰有限公司	当前权利人	ASML荷兰有限公司
发明人	L·H·M·韦尔斯塔彭;E·C·莫斯
代理机构	中国专利代理（香港）有限公司	代理人	王小衡;王忠忠

摘要

在以减小间距印刷特征的双曝光处理中，测量在第一曝光中印刷的特征的临界尺寸，并用作第二曝光的目标。

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供