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显示装置的制造方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN200380107560.7
  • IPC分类号:H05B33/14;H05B33/10;H05B33/22
  • 申请日期:
    2003-12-19
  • 申请人:
    株式会社半导体能源研究所
著录项信息
专利名称显示装置的制造方法
申请号CN200380107560.7申请日期2003-12-19
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2006-02-08公开/公告号CN1732719
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H05B33/14IPC分类号H;0;5;B;3;3;/;1;4;;;H;0;5;B;3;3;/;1;0;;;H;0;5;B;3;3;/;2;2查看分类表>
申请人株式会社半导体能源研究所申请人地址
日本神奈川 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人株式会社半导体能源研究所当前权利人株式会社半导体能源研究所
发明人土屋薰;石垣步;斋藤惠子
代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所代理人岳耀锋
摘要
一种显示装置的制造方法,可以抑制发光元件中的皱缩和发光不均匀等的缺陷模式,且缩短包含有机化合物的层(EL层)的前处理必需的时间。本发明的特征在于,通过形成与上述源区或漏区电连接的上述第1电极,形成上述绝缘膜以覆盖上述第1电极的端部,对上述第1电极和上述绝缘膜在包含氩气和氧气的气氛中进行等离子处理之后,在上述第1电极和上述绝缘膜上形成包含有机化合物的层,在包含有机化合物的层上形成第2电极,从而形成发光元件。

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