基板处理装置及其处理方法

发明专利有效专利

申请号：
CN200510134615.4
IPC分类号：B08B7/00;C23C14/02
申请日期：
2005-12-13
申请人：
K.C.科技株式会社

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著录项信息

专利名称	基板处理装置及其处理方法
申请号	CN200510134615.4	申请日期	2005-12-13
法律状态	暂无	申报国家	中国
公开/公告日	2006-07-05	公开/公告号	CN1796008
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	B08B7/00 ? IPC结构图谱： B 作业；运输 B0 分离；混合 B08 清洁 B08B 一般清洁；一般污垢的防除（刷子入A46；家庭或类似清洁装置入A47L；颗粒从液体或气体中分离入B01D；固体分离入B03，B07；一般对表面喷射或涂敷液体或其他流体材料入B05；用于输送机的清洗装置入B65G 45/10；对瓶子同时进行清洗、灌注和封装的入B67C 7/00；一般腐蚀或积垢的防止入C23；街道、永久性道路、海滨或陆地的清洗入E01H；专门用于游泳池或仿海滨浴场浅水池或池子的部件、零件或辅助设备清洁的入E04H 4/16；防止或清除静电荷入H05F） B08B7/00 不包含在其他小类或本小类的其他组中的清洁方法	IPC分类号	B;0;8;B;7;/;0;0;;;C;2;3;C;1;4;/;0;2查看分类表>
申请人	K.C.科技株式会社	申请人地址	韩国京畿道安城市变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	凯斯科技股份有限公司,KC股份有限公司	当前权利人	凯斯科技股份有限公司,KC股份有限公司
发明人	金世镐;朴钟秀;尹哲男
代理机构	北京金信立方知识产权代理有限公司	代理人	黄威;张金海

摘要

本发明涉及一种基板处理装置，其包括：装载部，用于装载形成有物质膜的基板；干冰供给部，供给干冰粒子或二氧化碳；喷射处理部，包括一个以上的喷管，向上述基板上喷射由上述干冰供给部所提供的干冰粒子，或将二氧化碳固化后喷射到基板上，以对物质膜进行初步表面处理；表面处理部，对上述经过初步表面处理的物质膜进行选择性的去除。本发明使用不留残屑的干冰粒子，对物质膜进行改质或部分去除，并通过清洗或蚀刻等表面处理，去除经改质的物质膜，以此可缩短物质膜去除所需工时。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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