成膜装置

发明专利有效专利

申请号：
CN202011507274.1
IPC分类号：C23C14/56;C23C14/24;C23C14/34;C23C14/04
申请日期：
2020-12-18
申请人：
佳能特机株式会社

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	成膜装置
申请号	CN202011507274.1	申请日期	2020-12-18
法律状态	实质审查	申报国家	中国
公开/公告日	2021-06-22	公开/公告号	CN113005422A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C23C14/56 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕 C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆（挤压法制造包覆金属的产品入B21C23/22；通过将预先存在的薄层连接到制品上的方法用金属进行镀覆处理的见各有关位置，例如B21D39/00，B23K；玻璃的金属化入C03C；砂浆、混凝土、人造石、陶瓷或天然石的金属化入C04B41/00；金属的搪瓷或向金属上镀覆玻璃体层入c23D；用电解法或电泳法处理金属表面或镀覆金属入C25D；单晶膜生长入C30B；纺织品的金属化入D06M11/83；用局部金属化法装饰纺织品入D06Q1/04）〔4〕 C23C14/00 通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆〔4，2006.01〕 C23C14/22 以镀覆工艺为特征的〔4〕 C23C14/56 连续镀覆的专用设备；维持真空的装置，例如真空锁定器〔4〕	IPC分类号	C;2;3;C;1;4;/;5;6;;;C;2;3;C;1;4;/;2;4;;;C;2;3;C;1;4;/;3;4;;;C;2;3;C;1;4;/;0;4查看分类表>
申请人	佳能特机株式会社	申请人地址	日本新泻县变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	佳能特机株式会社	当前权利人	佳能特机株式会社
发明人	岩崎达哉;内田敏治
代理机构	中国贸促会专利商标事务所有限公司	代理人	邓宗庆

摘要

本发明提供一种成膜装置，能够在不阻碍成膜源的移动的情况下稳定且再现良好地进行成膜。另外，实现成膜装置的耐久性的提高。成膜装置具有成膜室、成膜源以及连结构件，所述成膜源能够在所述成膜室内移动，所述连结构件连结所述成膜室的壁部和所述成膜源，向所述成膜源供给电力的配线插通于所述连结构件的内部，其中，所述连结构件具有至少一个移动体和将所述移动体与所述成膜室的壁部或所述成膜源连接的连接部，在所述连接部的内部设置有与所述配线连接的非接触送电受电线圈。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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