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具有低导通电阻的MOS器件的几何图形

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201210147239.2
  • IPC分类号:H01L27/02;H01L29/78;H01L27/088;H01L29/06;H01L29/423;H01L21/8234
  • 申请日期:
    2007-12-26
  • 申请人:
    马维尔国际贸易有限公司
著录项信息
专利名称具有低导通电阻的MOS器件的几何图形
申请号CN201210147239.2申请日期2007-12-26
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2012-10-03公开/公告号CN102709285A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L27/02IPC分类号H;0;1;L;2;7;/;0;2;;;H;0;1;L;2;9;/;7;8;;;H;0;1;L;2;7;/;0;8;8;;;H;0;1;L;2;9;/;0;6;;;H;0;1;L;2;9;/;4;2;3;;;H;0;1;L;2;1;/;8;2;3;4查看分类表>
申请人马维尔国际贸易有限公司申请人地址
巴巴多斯圣迈克尔 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人马维尔国际贸易有限公司当前权利人马维尔国际贸易有限公司
发明人塞哈特·苏塔迪嘉;拉维尚卡尔·克里沙姆尔斯
代理机构北京市金杜律师事务所代理人酆迅;张宁
摘要
本发明公开了一种具有低导通电阻的MOS器件的几何图形。公开了一种在衬底上形成的金属氧化物半导体(MOS)器件以及一种用于形成该MOS器件的方法。MOS器件包括:漏极区;围绕漏极区的栅极区;源极区,这些源极区被布置在栅极区周围并且与漏极区相对;以及体区,这些体区被布置在栅极区周围并且分隔源极区。栅极区被形成为环绕在漏极区的周围。以此方式,降低了MOS器件的导通电阻(Ron),而不增加MOS器件的面积。

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