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一种基于荧光成像分析的微界面羟基自由基表征方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN201610409040.0
  • IPC分类号:G01N21/64
  • 申请日期:
    2016-06-09
  • 申请人:
    天津城建大学
著录项信息
专利名称一种基于荧光成像分析的微界面羟基自由基表征方法
申请号CN201610409040.0申请日期2016-06-09
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2016-11-16公开/公告号CN106124463A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G01N21/64IPC分类号G;0;1;N;2;1;/;6;4查看分类表>
申请人天津城建大学申请人地址
天津市西青区津静公路26号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人天津城建大学当前权利人天津城建大学
发明人张硕;郑剑锋;孙力平;臧春元;樊雪峰
代理机构大连理工大学专利中心代理人温福雪
摘要
本发明属于高级氧化水污染控制领域,涉及一种基于荧光成像分析的微界面羟基自由基表征方法。本发明提出利用荧光显微成像分析技术表征催化材料微界面的HO·生成强度。基于香豆素分子与HO·以1:1的剂量迅速作用转化成具有荧光发光性质的七羟基香豆素,且本团队已经研究证实了七羟基香豆素浓度与特定波长区域的荧光显色特性及强度密切相关。通过向非均相反应体系中投加过量的香豆素作为HO·捕获剂,进而借助荧光显微比色法能够有效的间接获取催化材料表层HO·的强度信息。本方法实现对非均相动态催化体系中固‑液微界面HO·的半定量检测;能以成像的方式直接识别并表达功能性材料的催化效能;此方法抗干扰性强,操作步骤相对简单。

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