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半导体装置和制造方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201910468930.2
  • IPC分类号:H01L27/146;H01L21/768
  • 申请日期:
    2014-03-14
  • 申请人:
    索尼公司
著录项信息
专利名称半导体装置和制造方法
申请号CN201910468930.2申请日期2014-03-14
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2019-09-06公开/公告号CN110211979A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L27/146IPC分类号H;0;1;L;2;7;/;1;4;6;;;H;0;1;L;2;1;/;7;6;8查看分类表>
申请人索尼公司申请人地址
日本东京 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人索尼公司当前权利人索尼公司
发明人藤井宣年;萩本贤哉;青柳健一;香川惠永
代理机构北京信慧永光知识产权代理有限责任公司代理人李晗;曹正建
摘要
一种半导体装置,包括:第一基板,具有暴露第一电极和第一绝缘膜的接合表面;绝缘薄膜,覆盖该第一基板的该接合表面;以及第二基板,具有暴露第二电极第二绝缘膜的接合表面,在该第二基板的该接合表面和该第一基板的该接合表面接合在一起并在该第二基板的该接合表面和该第一基板的该接合表面之间夹设该绝缘薄膜的状态下该第二基板接合到该第一基板,该第一电极和该第二电极将该绝缘薄膜的一部分变形并且破坏以使该第一电极和该第二电极彼此直接电连接。还公开了半导体装置的制造方法。

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