加载中...
首页专利查询专利详情

*来源于国家知识产权局数据,仅供参考,实际以国家知识产权局展示为准

多层陶瓷电容器及其形成方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200510006239.0
  • IPC分类号:H01G4/30;H01G4/12;H01G4/008;H01G13/00
  • 申请日期:
    2005-02-02
  • 申请人:
    达方电子股份有限公司
著录项信息
专利名称多层陶瓷电容器及其形成方法
申请号CN200510006239.0申请日期2005-02-02
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2006-08-09公开/公告号CN1815644
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01G4/30IPC分类号H;0;1;G;4;/;3;0;;;H;0;1;G;4;/;1;2;;;H;0;1;G;4;/;0;0;8;;;H;0;1;G;1;3;/;0;0查看分类表>
申请人达方电子股份有限公司申请人地址
台湾省桃园县 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人达方电子股份有限公司当前权利人达方电子股份有限公司
发明人黄弘毅;蔡旻宪
代理机构北京市柳沈律师事务所代理人陶凤波;侯宇
摘要
一种多层陶瓷电容器的形成方法,包括步骤:提供电容陶瓷体,包含多层介电陶瓷层以及沿着介电陶瓷层的表面形成的多层内部电极;形成外部电极于电容陶瓷体外,并电连接于部分的内部电极;覆盖导电层于外部电极;其中,内部电极与外部电极包含贱金属,导电层包含贵金属。覆盖一导电层于该外部电极的步骤之后还包括:以细陶瓷粉末混合该多层陶瓷电容器,并进行震荡抛光;以及将该导电层打磨抛光。

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供