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透镜阵列以及其制造方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201280052224.6
  • IPC分类号:G02B6/42
  • 申请日期:
    2012-10-24
  • 申请人:
    恩普乐股份有限公司
著录项信息
专利名称透镜阵列以及其制造方法
申请号CN201280052224.6申请日期2012-10-24
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2014-09-03公开/公告号CN104024901A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G02B6/42IPC分类号G;0;2;B;6;/;4;2查看分类表>
申请人恩普乐股份有限公司申请人地址
日本埼玉县 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人恩普乐股份有限公司当前权利人恩普乐股份有限公司
发明人森冈心平;涩谷和孝
代理机构北京银龙知识产权代理有限公司代理人丁文蕴;王莉莉
摘要
本发明提供能对应于小型化以及多通道化的同时有效地得到监视光,并且能够提高成品率及操作性的简化的透镜阵列以及其制造方法。本发明的解决方案如下:在由接合剂(20)将棱镜(18)接合于棱镜配置用凹部(16)内时,由在透镜排列方向上与棱镜配置用凹部(16)连通的第一防止气泡滞留用凹部(25)及第二防止气泡滞留用凹部(26),来防止接合剂(20)向棱镜配置用凹部(16)和棱镜(18)之间的各个发光元件(7)的光的光路上的气泡滞留,并且由防止接合剂流入用凹缘部(27)来防止接合剂(20)向全反射面14上的流入。

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