一种设计交替相移掩模的方法和装置

发明专利无效专利

申请号：
CN200310116594.4
IPC分类号：G06F17/50;H01L21/027;G03F1/16;G06F9/40
申请日期：
2003-11-18
申请人：
国际商业机器公司

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	一种设计交替相移掩模的方法和装置
申请号	CN200310116594.4	申请日期	2003-11-18
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2004-06-09	公开/公告号	CN1503056
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G06F17/50 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G06 计算；推算；计数 G06F 电数字数据处理（基于特定计算模型的计算机系统入G06N） G06F17/00 特别适用于特定功能的数字计算设备或数据处理设备或数据处理方法〔6〕 G06F17/50 计算机辅助设计（静态存储的测试电路的设计入G11C 29/54）〔6，8〕	IPC分类号	G;0;6;F;1;7;/;5;0;;;H;0;1;L;2;1;/;0;2;7;;;G;0;3;F;1;/;1;6;;;G;0;6;F;9;/;4;0查看分类表>
申请人	国际商业机器公司	申请人地址	美国纽约州变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	国际商业机器公司	当前权利人	国际商业机器公司
发明人	拉斯·W·利布曼;卡洛斯·A·方西卡;约安纳·格劳尔
代理机构	北京市柳沈律师事务所	代理人	陶凤波;侯宇

摘要

本发明提供一种设计交替相移掩模的方法及装置，该掩模包括衬底。该方法包括以下步骤提供电路布局；确定电路布局的多个临界单元；提供截止布局尺寸；确定电路布局的临界部分，其中该些多个临界单元的每一个具有小于截止尺寸的亚截止尺寸；创建与临界部分相关的基本位相形状；从位相形状中去除布局违例；确定与临界部分相关的位相形状的宽度是否具有不相等的较窄的和较宽的宽度，如果是，那么加宽每个较窄的位相形状，以与临界部分相关的较宽的位相形状的宽度配合，从去除布局违例开始重复步骤，直到测试答案为否；如果测试答案为否，那么提供布局图形给输出。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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