用于钨化学机械抛光的组合物

发明专利有效专利

申请号：
CN201580013513.9
IPC分类号：C09K3/14;H01L21/304
申请日期：
2015-03-09
申请人：
嘉柏微电子材料股份公司

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著录项信息

专利名称	用于钨化学机械抛光的组合物
申请号	CN201580013513.9	申请日期	2015-03-09
法律状态	暂无	申报国家	中国
公开/公告日	2016-11-09	公开/公告号	CN106103638A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C09K3/14 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C0 化学 C09 染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用 C09K 不包含在其他类目中的各种应用材料；不包含在其他类目中的材料的各种应用 C09K3/00 不包含在其他类目中的材料〔2〕 C09K3/14 防滑材料；研磨材料（含高分子物质的磨料或摩擦体或者成型磨料的制造入C08J 5/14）〔4〕	IPC分类号	C;0;9;K;3;/;1;4;;;H;0;1;L;2;1;/;3;0;4查看分类表>
申请人	嘉柏微电子材料股份公司	申请人地址	美国伊利诺伊州变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	CMC材料股份有限公司	当前权利人	CMC材料股份有限公司
发明人	S.格伦宾;J.戴萨德;富琳;W.沃德;G.怀特纳
代理机构	北京市柳沈律师事务所	代理人	宋莉;邢岳

摘要

用于抛光具有钨层的基板的化学机械抛光组合物，其包括基于水的液体载剂、分散于该液体载剂中且具有至少6mV永久性正电荷的胶态二氧化硅研磨剂、在该液体载剂中呈溶液形式的胺化合物、以及含铁的促进剂。用于化学机械抛光包括钨层的基板的方法，其包括：使该基板与上述抛光组合物接触，相对于该基板移动该抛光组合物，及研磨该基板以自该基板移除该钨的一部分并由此抛光该基板。

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