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半导体装置

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201110351212.0
  • IPC分类号:H01L29/423;H01L29/40;H01L29/20;H01L29/778
  • 申请日期:
    2009-12-21
  • 申请人:
    三垦电气株式会社
著录项信息
专利名称半导体装置
申请号CN201110351212.0申请日期2009-12-21
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2012-02-15公开/公告号CN102354705A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L29/423IPC分类号H;0;1;L;2;9;/;4;2;3;;;H;0;1;L;2;9;/;4;0;;;H;0;1;L;2;9;/;2;0;;;H;0;1;L;2;9;/;7;7;8查看分类表>
申请人三垦电气株式会社申请人地址
日本埼玉县 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人三垦电气株式会社当前权利人三垦电气株式会社
发明人町田修;岩渕昭夫
代理机构北京银龙知识产权代理有限公司代理人钟晶;於毓桢
摘要
本发明的一个方面在于一种半导体装置,其包含半导体区域、设置在该半导体区域的主表面上的源极电极和漏极电极、具有常关闭特性的栅极电极,该栅极电极设置在该半导体区域的主表面上同时在其间插入p型材料膜,并且该栅极电极排列在该源极电极和该漏极电极之间,以及第四电极,其设置在该半导体区域的主表面上,并且排列在该栅极电极和该漏极电极之间。其中保留在第四电极之下的半导体区域的厚度大于保留在栅极电极之下的半导体区域的厚度。

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