一种压力可调的浮离抛光装置

发明专利有效专利

申请号：
CN201810529543.0
IPC分类号：--
申请日期：
2018-05-29
申请人：
昆明理工大学

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法律信息

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著录项信息

专利名称	一种压力可调的浮离抛光装置
申请号	CN201810529543.0	申请日期	2018-05-29
法律状态	实质审查	申报国家	中国
公开/公告日	2018-10-26	公开/公告号	CN108705411A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	暂无	IPC分类号	暂无查看分类表>
申请人	昆明理工大学	申请人地址	云南省昆明市五华区学府路253号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	昆明理工大学	当前权利人	昆明理工大学
发明人	杨晓京;余证;刘宁;刘浩
代理机构	暂无	代理人	暂无

摘要

本发明涉及一种压力可调的浮离抛光装置，属于超精密抛光领域。包括磁浮式微位移机构、抛光盘机构、夹具保持平台机构、电机传动机构；第一、第二电磁铁安装在抛光盘和抛光容器底部，抛光盘固定在抛光托盘上端，第二主轴固定在抛光托盘下端；夹具保持平台由固定件固定在抛光容器壁上，旋转夹具放置在夹具保持平台的孔内底部平台上，工件保持盘卡在旋转夹具内，压力传感器设置在工件保持盘底部，轮齿传动零件的滑块与夹具保持平台凹槽连接，并与旋转夹具轮齿啮合；电机安装在支撑架上，电机轴穿过滚动轴承，通过联轴器、平键、第一主轴与轮齿转动零件连接。本浮离抛光装置有效的避免因压力不稳定造成抛光面质量差的问题，提升了抛光质量。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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