高强度光记录介质保护膜形成用溅镀靶材

发明专利有效专利

申请号：
CN200780021093.4
IPC分类号：C23C14/34;C04B35/00;C04B35/10;C04B35/48;C04B35/50;G11B7/254;G11B7/257;G11B7/26
申请日期：
2007-06-08
申请人：
三菱麻铁里亚尔株式会社

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著录项信息

专利名称	高强度光记录介质保护膜形成用溅镀靶材
申请号	CN200780021093.4	申请日期	2007-06-08
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2009-06-17	公开/公告号	CN101460653
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C23C14/34 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕 C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆（挤压法制造包覆金属的产品入B21C23/22；通过将预先存在的薄层连接到制品上的方法用金属进行镀覆处理的见各有关位置，例如B21D39/00，B23K；玻璃的金属化入C03C；砂浆、混凝土、人造石、陶瓷或天然石的金属化入C04B41/00；金属的搪瓷或向金属上镀覆玻璃体层入c23D；用电解法或电泳法处理金属表面或镀覆金属入C25D；单晶膜生长入C30B；纺织品的金属化入D06M11/83；用局部金属化法装饰纺织品入D06Q1/04）〔4〕 C23C14/00 通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆〔4，2006.01〕 C23C14/22 以镀覆工艺为特征的〔4〕 C23C14/34 溅射〔4〕	IPC分类号	C;2;3;C;1;4;/;3;4;;;C;0;4;B;3;5;/;0;0;;;C;0;4;B;3;5;/;1;0;;;C;0;4;B;3;5;/;4;8;;;C;0;4;B;3;5;/;5;0;;;G;1;1;B;7;/;2;5;4;;;G;1;1;B;7;/;2;5;7;;;G;1;1;B;7;/;2;6查看分类表>
申请人	三菱麻铁里亚尔株式会社	申请人地址	日本东京都变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	三菱麻铁里亚尔株式会社	当前权利人	三菱麻铁里亚尔株式会社
发明人	张守斌;佐佐木勇人;小见山昌三;三岛昭史
代理机构	中国专利代理（香港）有限公司	代理人	吴娟;孙秀武

摘要

本发明提供一种高强度光记录介质保护膜形成用溅镀靶材，该溅镀靶材是通过烧结具有以％(摩尔)计含有10～70％的氧化锆或氧化铪、50％以下(不包括0％)的二氧化硅、根据需要含有0.1～8.4％的氧化钇、剩余部分包含氧化铝、氧化镧或氧化铟和不可避免的杂质的配合组成的混合粉末而形成，该靶材在靶材基质中具有生成有具Al6Si2O13、La2SiO5或In2Si2O7的组成的复合氧化物相的组织。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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