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光掩模的制造方法

发明专利无效专利

申请号：
CN01145446.6
IPC分类号：G03F1/00;H01L21/027
申请日期：
2001-08-29
申请人：
株式会社东芝

基础信息

权利要求

说明书

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	光掩模的制造方法
申请号	CN01145446.6	申请日期	2001-08-29
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2002-07-03	公开/公告号	CN1356592
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F1/00 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F1/00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备〔3，2012.01〕	IPC分类号	G;0;3;F;1;/;0;0;;;H;0;1;L;2;1;/;0;2;7查看分类表>
申请人	株式会社东芝	申请人地址	日本东京都变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	株式会社东芝	当前权利人	株式会社东芝
发明人	伊藤正光;野嶋茂树;三本木省次;池永修
代理机构	中国国际贸易促进委员会专利商标事务所	代理人	王永刚

摘要

掩模的制造方法具备在形成光掩模的图案后，测定形成的图案的尺寸步骤和根据测定的图案尺寸的结果求出使用上述光掩模时的曝光裕度的步骤。并且根据上述求得的曝光裕度是否满足所期望的曝光裕度这个条件，来判断上述光掩模是否合格。

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